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电子探针微区分析（EPMA）可对金属材料进行微区成分和结构分析。它利用聚焦的高能电子束轰击金属样品表面，激发样品发出特征 X 射线、二次电子等信号。通过检测特征 X 射线的波长和强度，能精确分析微区内元素的种类和含量，其空间分辨率可达微米级。同时，结合二次电子成像，可观察微区的微观形貌和组织结构。在金属材料的失效分析中，EPMA 发挥着重要作用。例如，当金属零部件出现局部腐蚀或断裂时，通过 EPMA 对失效部位的微区进行分析，可确定腐蚀产物的成分、微区的元素分布以及组织结构变化，从而找出导致失效的根本原因，为改进材料设计和加工工艺提供有力依据，提高产品的质量和可靠性。

二次离子质谱（SIMS）能够对金属材料进行深度剖析，精确分析材料表面及内部不同深度处的元素组成和同位素分布。该技术通过用高能离子束轰击金属样品表面，使表面原子溅射出来并离子化，然后通过质谱仪对二次离子进行分析。在半导体制造中，对于金属互连材料，SIMS 可用于检测金属薄膜中的杂质分布以及金属与半导体界面处的元素扩散情况，这对于提高半导体器件的性能和可靠性至关重要。在金属材料的腐蚀研究中，SIMS 能够分析腐蚀产物在材料表面和内部的分布，深入了解腐蚀机制，为开发更有效的腐蚀防护方法提供依据。​